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發(fā)布時(shí)間：2020-04-15 來(lái)源：元祿光電
導電玻璃是指透明導電氧化物，如氧化銦錫ITO、摻雜氟的SnO2 FTO、氧化鋅ZnO、氧化鎳NiO、納米銀等，部分為銅、鋁、金等材料，以玻璃為基材，通過(guò)磁控濺射等方式將導電材料生長(cháng)在玻璃上的產(chǎn)品，常用于觸摸屏、光伏太陽(yáng)能電池、戶(hù)外顯示、航空航天等諸多領(lǐng)域當中。
導電玻璃在產(chǎn)品成型之前需要對其進(jìn)行刻蝕加工，形成電路圖，光伏行業(yè)主要是劃線(xiàn)，做成一個(gè)個(gè)小單元的電極，增大電壓，無(wú)論哪一個(gè)應用領(lǐng)域，都需要對其進(jìn)行刻蝕加工。目前刻蝕工藝主要分為激光刻蝕、等離子刻蝕、化學(xué)刻蝕以及機械劃線(xiàn)等幾種方式，武漢元祿光電為大家介紹幾種刻蝕的方法、優(yōu)缺點(diǎn)以及重點(diǎn)介紹激光刻蝕機的選型。
化學(xué)刻蝕：優(yōu)點(diǎn)是加工速度快，一次成型，適合大面積加工；缺點(diǎn)是添加劑具有毒性，并且具有一定的污染性，操作流程相對復雜，對掩膜版要求高，不具備超精密微納結構的加工能力。
等離子刻蝕：超細微精密刻蝕，刻蝕線(xiàn)寬達到納米級，精度高；缺點(diǎn)是成本高，對使用環(huán)境等諸多要素都有極高要求。
機械劃線(xiàn)：主要優(yōu)勢是成本低廉；缺點(diǎn)也顯而易見(jiàn)，對基材的損傷、線(xiàn)寬控制、精度控制、效果控制都不如其他加工，早期常應用于光伏太陽(yáng)能劃線(xiàn)。
激光刻蝕：分為干法刻蝕和黃光曝光兩種，黃光曝光的優(yōu)勢在于一次成型，精度高、刻蝕效果好、精細，缺點(diǎn)是成本相對較高，具備污染性。干法刻蝕是指激光直接入射在材料表面無(wú)需任何添加劑，通過(guò)高能量的光束汽化材料，形成線(xiàn)路或斷路，相比較于其他幾種工藝，在導電玻璃行業(yè)中可謂星光熠熠，處處優(yōu)勢明顯，也是目前整個(gè)行業(yè)領(lǐng)域內最主流的機器。
激光刻蝕機
激光刻蝕機的主要優(yōu)點(diǎn)是操作簡(jiǎn)便，導入CAD或Gerber文件，通過(guò)振鏡偏轉、配合XY軸移動(dòng)形成大面積的刻蝕成型，無(wú)耗材、無(wú)污染，刻蝕干凈，最小線(xiàn)寬可達到亞納米級別，目前武漢元祿光電普通振鏡掃描方式，導電ITO玻璃最小線(xiàn)寬在3微米，而在實(shí)驗室內最小可達700nm線(xiàn)寬，特別適合于導電玻璃微納激光刻蝕。
激光刻蝕機用于導電玻璃行業(yè)中主要激光波段為1064/532/355nm納秒、皮秒激光刻蝕機以及1030/515nm/355nm波段的飛秒激光刻蝕機，根據不同的應用場(chǎng)景需求，配置不同的激光器，并且會(huì )根據實(shí)際需求選擇不同的光學(xué)器件，如掃描幅面、擴束倍數、加工面積等條件。
一般來(lái)說(shuō)，激光刻蝕機的參考選型主要參考因素是導電玻璃的材料、幅寬、線(xiàn)寬、線(xiàn)間距要求，至于說(shuō)材料的厚度一般都是在幾百微米范圍內，有的甚至只有幾個(gè)納米，對于激光刻蝕機來(lái)說(shuō)不難加工，主要還是看熱影響范圍區域，加工后的線(xiàn)寬、線(xiàn)間距以及線(xiàn)性直線(xiàn)度、加工精度以及誤差等影響。
因此確定激光刻蝕機的選擇需要明確以上幾點(diǎn)，根據需求推薦對應的機器類(lèi)型，一般來(lái)說(shuō)紅外1064納秒激光刻蝕機主要適用于20微米以上線(xiàn)寬的加工要求，飛秒激光刻蝕機主要適用于多層材料的導電玻璃激光刻蝕，如特殊需求仍需以實(shí)驗試樣為準。
推薦產(chǎn)品：飛秒激光刻蝕機
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